[TiMing]：DengLiZiTiXingYinJiHuYuanYiCiKongJianSheDuMoJiDengLiZiTiXingYinJiHuYuanYiCiKongJianSheDuMoJi
[申请号]：98236950[公开号]：00000000
[公告号]：2333716[申请日期]：19980318
[公开日期]：00000000[公告日期]：19990818
[授权日期]：00000000
[专利类型]：实用新型
[国际类型]：C23C14/35
[申请人]：陈大民、陈宝清
[ShenQingRen]：ChenDaMin、ChenBaoQing
[国家省市]：沈阳(89)
[地址]：辽宁省沈阳市东陵区文化东路60号沈阳真空机械厂
[DiZhi]：LiaoNingShengShenYangShiDongLingQuWenHuaDongLu60HaoShenYangZhenKongJiXieChang
[邮编]：110015
[发明人]：陈大民;陈宝清 [FaMingRen]：ChenDaMin、ChenBaoQing
[代理人]：于菲 [DaiLiRen]：YuFei
[代理机构]：沈阳市专利事务所(21101)[代理地址]：辽宁省沈阳市沈河区西顺城街66号60甲(110013)
[审批历史]： 2002年5月1日因费用终止日
[页数]：2[附图]：1[优先权]：[PCT]：[范畴]：23D[权利要求]：
等离子体型多弧源－磁控溅射镀膜机，它包括真空室，在真空室上联接有真空排气装置，真空室中安装有工件架，其特征是在真空室的底部安装有Ｅ型电子枪，同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。
[权利要求数]：2
[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com
[摘要]： 等离子体型多弧源－磁控溅射镀膜机，它包括真空室，在真空室上联接有真空排气装置，真空室中安装有工件架，其特征是在真空室的底部安装有Ｅ型电子枪，同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。本实用新型的优点有：由于生产工艺的简化和设备投资的减小，使产品的生产成本得到降低。消除了原生产工艺对环境的污染及对人体所产生的有害影响，可以在仿金饰件外镀制保护膜，可以提高其使用寿命。
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