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溅射方法和溅射设备JianSheFangFaHeJianSheSheBei

[题名]:溅射方法和溅射设备JianSheFangFaHeJianSheSheBei

[TiMing]:JianSheFangFaHeJianSheSheBeiJianSheFangFaHeJianSheSheBei

[申请号]:97119330[公开号]:1178843

[公告号]:1152977[申请日期]:19970828

[公开日期]:19980415[公告日期]:00000000

[授权日期]:20040609

[专利类型]:发明专利

[国际类型]:C23C14/34;C23C14/54

[申请人]:松下电器产业株式会社

[ShenQingRen]:SongXiaDianQiChanYeZhuShiHuiShe

[国家省市]:日本(JP)

[地址]:日本大阪府

[DiZhi]:RiBenDaZuoFu

[邮编]:

[发明人]:奥田晃;横山政秀;早田博  [FaMingRen]:AoTianHuang、HengShanZhengXiu、ZaoTianBo

[代理人]:萧掬昌;叶恺东  [DaiLiRen]:XiaoZuoChang,YeZuoDong

[代理机构]:中国专利代理(香港)有限公司(72001)[代理地址]:香港湾仔港湾道23号鹰君中心22字楼()

[审批历史]:

[页数]:9[附图]:6[优先权]:    日本1996年8月28日226512/96[PCT]:[范畴]:25F38F[权利要求]:
    一种溅射方法,其中在放电溅射时,增加放电气体的流速以便使真空室(5)压力高于溅射压力,    该方法包括:    打开触发气体馈给系统(7)以增加放电气体流速来使真空压力高于放电开始之前的溅射压力;    当引

[权利要求数]:0

[来源]: 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]: 一种在放电开始之前通常保持打开的触发气体馈给系统。当产生放电时,即刻关闭触发气体馈给系统,从而使真空室处于溅射压力。在放电完成之后再次打开触发气体馈给系统。持续打开状态直至开始另一次放电。因此,在放电前真空室压力总是保持恒定,并且将真空室恢复到溅射压力的时间缩短。

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