[TiMing]：HuiSeDiaoYanMoDeQueXianJianChaFangFaHeHuiSeDiaoYanMoDeZhiZaoFangFaHuiSeDiaoYanMoDeQueXianJianChaFangFaHeHuiSeDiaoYanMoDeZhiZaoFangFa
[申请号]：200410030983[公开号]：1534365
[公告号]：0000000[申请日期]：20040401
[公开日期]：20041006[公告日期]：00000000
[授权日期]：00000000
[专利类型]：发明专利
[国际类型]：G02F1/136;H01L21/00;H01L29/786
[申请人]：HOYA株式会社
[ShenQingRen]：HOYAZhuShiHuiShe
[国家省市]：日本(JP)
[地址]：日本东京
[DiZhi]：RiBenDongJing
[邮编]：
[发明人]：池边寿美 [FaMingRen]：ChiBianShouMei
[代理人]：李辉 [DaiLiRen]：LiHui
[代理机构]：北京三友专利代理有限责任公司(11127)[代理地址]：北京市北三环中路40号(100088)
[审批历史]：
[页数]：6[附图]：4[优先权]： 日本2003年4月1日098499/2003[PCT]：[范畴]：[权利要求]：
一种灰色调掩模的缺陷检查方法，该灰色调掩模在薄膜晶体管基板的制造工序中使用，并具有遮光部、透光部和灰色调部，其特征在于， 上述方法包括把具有超过规定容许范围的缺陷水平的黑缺陷和／或白缺陷的掩模
[权利要求数]：1
[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com
[摘要]： 本发明提供一种灰色调掩模的缺陷检查方法，该灰色调掩模在薄膜晶体管基板的制造工序中使用，并具有遮光部（１１ａ、１１ｂ）、透光部（１２）和灰色调部（１３），其特征在于，上述方法包括把具有超过规定容许范围的缺陷水平的黑缺陷和／或白缺陷的掩模作为不良而抽出的灰色调部的缺陷检查工序；关于上述规定容许范围，白缺陷的比黑缺陷的大（使白缺陷的阈值较大（不严格），使黑缺陷的阈值较小（严格））。从而可在不降低灰色调掩模制造的成品率的前提下防止在ＴＦＴ基板中发生缺陷。
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[下一条]：灰色调掩模的缺陷校正方法
