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用于高密度等离子体制程的注射装置YongYuGaoMiDuDengLiZiTiZhiChengDeZhuSheZhuangZhi

[题名]:用于高密度等离子体制程的注射装置YongYuGaoMiDuDengLiZiTiZhiChengDeZhuSheZhuangZhi

[TiMing]:YongYuGaoMiDuDengLiZiTiZhiChengDeZhuSheZhuangZhiYongYuGaoMiDuDengLiZiTiZhiChengDeZhuSheZhuangZhi

[申请号]:200310122888[公开号]:1632909

[公告号]:0000000[申请日期]:20031225

[公开日期]:20050629[公告日期]:00000000

[授权日期]:00000000

[专利类型]:发明专利

[国际类型]:H01L21/00;H01L21/205;H01L21/3065

[申请人]:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

[ShenQingRen]:ZhongXinGuoJiJiChengDianLuZhiZao(ShangHai)YouXianGongSi

[国家省市]:上海(31)

[地址]:上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号

[DiZhi]:ShangHaiShiPuDongXinQuZhangJiangGaoKeJiYuanQuZhangJiangLu18Hao

[邮编]:201203

[发明人]:陈建维;温家琳  [FaMingRen]:ChenJianWei、WenJiaLin

[代理人]:竺明;谢晋光  [DaiLiRen]:ZuoMing,XieJinGuang

[代理机构]:上海高升专利事务所(31212)[代理地址]:上海市徐汇区茶陵北路21号214室(20032)

[审批历史]:

[页数]:4[附图]:4[优先权]:[PCT]:[范畴]:[权利要求]:
    

[权利要求数]:1

[来源]: 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]:

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