[TiMing]：WuCiPingBiXingTieCiXingBaCaiJianSheYinJiWuCiPingBiXingTieCiXingBaCaiJianSheYinJi
[申请号]：02116687[公开号]：1397660
[公告号]：0000000[申请日期]：20020416
[公开日期]：20030219[公告日期]：00000000
[授权日期]：00000000
[专利类型]：发明专利
[国际类型]：C23C14/34
[申请人]：北京科技大学
[ShenQingRen]：BeiJingKeJiDaXue
[国家省市]：北京(11)
[地址]：北京市海淀区学院路30号
[DiZhi]：BeiJingShiHaiDianQuXueYuanLu30Hao
[邮编]：100083
[发明人]：杨会生;王燕斌;熊小涛 [FaMingRen]：YangHuiSheng、WangYanBin、XiongXiaoTao
[代理人]：刘月娥 [DaiLiRen]：LiuYueE
[代理机构]：北京科技大学专利代理事务所(11207)[代理地址]：北京市学院路30号(100083)
[审批历史]：
[页数]：12[附图]：6[优先权]：[PCT]：[范畴]：25F23D[权利要求]：
一种磁控溅射阴极，由法兰（２８）、密封胶圈（２６）、固定螺栓孔（２７）、基片（３７）组成；其特征在于：法兰（２８）安装于真空室壁上，在法兰（２８）上有密封胶圈（２６）和固定螺栓孔（２７），基片（３７
[权利要求数]：4
[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com
[摘要]： 本发明提供了一种磁控溅射阴极及其溅射方法，其特征在于：法兰（２８）安装于真空室壁上，在法兰（２８）上有密封胶圈（２６）和固定螺栓孔（２７），基片（３７）置于阴极上方进行溅射镀膜；对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极，铁磁性靶材由中心圆形靶材（２１’）和外侧环型靶材（２１）组成，中心圆形靶材与外侧环形靶材之间有５－６０ｍｍ的间隙，溅射在间隙附近发生；靶材（２１，２１’）、磁极（２２，２２’）、磁铁（２３，２３’）和磁极背板（３８）构成闭合磁路；其中磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料；靶体（３３）采用具有良好导热性的材料制造。在溅射过程中，等离子体中的离子对靶材表面的轰击，将有大量的热能产生，在靶体内构造出冷却水道（３９）。本发明的优点在于：克服了铁磁性靶材对磁路的屏蔽效应；增加一致性，易于安装和维护。
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