[TiMing]：PuGuangZhuangZhiJianChaYongYanMo、PuGuangZhuangZhiJianChaFangFaHePuGuangZhuangZhiPuGuangZhuangZhiJianChaYongYanMo、PuGuangZhuangZhiJianChaFangFaHePuGuangZhuangZhi
[申请号]：200410081165[公开号]：1605934
[公告号]：0000000[申请日期]：20040930
[公开日期]：20050413[公告日期]：00000000
[授权日期]：00000000
[专利类型]：发明专利
[国际类型]：G03F1/00;G03F7/20;H01L21/027
[申请人]：株式会社东芝
[ShenQingRen]：ZhuShiHuiSheDongZhi
[国家省市]：日本(JP)
[地址]：日本东京都
[DiZhi]：RiBenDongJingDu
[邮编]：
[发明人]：福原和也 [FaMingRen]：FuYuanHeYe
[代理人]：陈海红;段承恩 [DaiLiRen]：ChenHaiHong,DuanChengEn
[代理机构]：中咨律师事务所(11247)[代理地址]：北京市朝阳区朝外大街20号联合大厦901室(100020)
[审批历史]：
[页数]：11[附图]：12[优先权]： 日本2003年10月7日348132/2003[PCT]：[范畴]：[权利要求]：
一种曝光装置检查用掩模，用于对把光掩模载置到与被曝光对象光学性地共轭的共轭位置上，通过上述光掩模把来自光源的曝光用光束投影到上述被曝光对象上的曝光装置的上述曝光用光束的偏振状态进行检查，而载置到上述
[权利要求数]：3
[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com
[摘要]： 本发明用于简便地检查曝光装置的照明光的偏振状态。把检查用掩模５０载置到曝光装置３０的光掩模载置台３４上。检查用掩模５０，在透明基板５１的背面一侧具备遮光图形５３，借助于在该遮光图形５３上形成的针孔５５，在透明基板５１的正面一侧形成２次光源４１的像４１’。形成该像４１’的光束通过偏振器图形５６－５９，投影到已涂敷到晶片３５上的抗蚀剂上边。抗蚀剂的除去比率因偏振器图形５６－５９的偏振轴方向而变化，根据该变化，就可以判定２次光源４１的偏振方向是否处于预期的方向。
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[下一条]：电光装置及电子设备
