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等离子体装置及等离子体生成方法DengLiZiTiZhuangZhiJiDengLiZiTiShengChengFangFa

[题名]:等离子体装置及等离子体生成方法DengLiZiTiZhuangZhiJiDengLiZiTiShengChengFangFa

[TiMing]:DengLiZiTiZhuangZhiJiDengLiZiTiShengChengFangFaDengLiZiTiZhuangZhiJiDengLiZiTiShengChengFangFa

[申请号]:02803904[公开号]:1537406

[公告号]:0000000[申请日期]:20020118

[公开日期]:20041013[公告日期]:00000000

[授权日期]:00000000

[专利类型]:发明专利

[国际类型]:C23C16/505;H01L21/205;H01L21/3065;H05H1/46

[申请人]:东京毅力科创株式会社、安藤真、高桥応明

[ShenQingRen]:DongJingYiLiKeChuangZhuShiHuiShe、AnTengZhen、GaoQiaoMing

[国家省市]:日本(JP)

[地址]:日本东京都

[DiZhi]:RiBenDongJingDu

[邮编]:

[发明人]:安藤真;高桥応明;石井信雄  [FaMingRen]:AnTengZhen、GaoQiaoMing、ShiJingXinXiong

[代理人]:陆锦华  [DaiLiRen]:LuJinHua

[代理机构]:(11258)[代理地址]:()

[审批历史]:

[页数]:25[附图]:16[优先权]:    日本2001年1月18日10291/01[PCT]:    [范畴]:[权利要求]:
    一种等离子体装置,具有将通过馈电部供给的高频电磁场供给到处理容器内的缝隙天线,    其特征在于,    所述馈电部具有谐振腔,所述谐振腔构成谐振器,同时,将馈电的高频电磁场变换成旋转电磁场并供给所

[权利要求数]:0

[来源]: 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]: 一种等离子体装置,包括将通过馈电部供给的高频电磁场(F)供给到处理容器(11)内的缝隙天线(30),所述馈电部具有谐振腔(35),所述谐振腔构成谐振器,同时将馈电的高频电磁场(F)变换成旋转电磁场并供给所述缝隙天线(30)。

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