一种三维微结构的制作方法及其曝光装置YiZhongSanWeiWeiJieGouDeZhiZuoFangFaJiQiPuGuangZhuangZhi

[题名]：一种三维微结构的制作方法及其曝光装置YiZhongSanWeiWeiJieGouDeZhiZuoFangFaJiQiPuGuangZhuangZhi

[TiMing]：YiZhongSanWeiWeiJieGouDeZhiZuoFangFaJiQiPuGuangZhuangZhiYiZhongSanWeiWeiJieGouDeZhiZuoFangFaJiQiPuGuangZhuangZhi

[申请号]：01108436[公开号]：1385759

[公告号]：0000000[申请日期]：20010516

[公开日期]：20021218[公告日期]：00000000

[授权日期]：00000000

[专利类型]：发明专利

[国际类型]：G02B27/22;G03F7/22

[申请人]：中国科学院光电技术研究所

[ShenQingRen]：ZhongGuoKeXueYuanGuangDianJiShuYanJiuSuo

[国家省市]：四川(51)

[地址]：四川双流350信箱

[DiZhi]：SiChuanShuangLiu350XinXiang

[邮编]：610209

[发明人]：曾红军;陈波;杜春雷;郭履容  [FaMingRen]：ZengHongJun、ChenBo、DuChunLei、GuoLvRong

[代理人]：张一红;王庆理  [DaiLiRen]：ZhangYiHong,WangQingLi

[代理机构]：四川大学专利事务所(51200)[代理地址]：四川省成都市九眼桥川大内老滨江楼59号(610064)

[审批历史]：

[页数]：5[附图]：1[优先权]：[PCT]：[范畴]：30B40E23E[权利要求]：
    一种三维微结构的制作方法，其特征在于通过以下步骤完成：    ①通过计算机（５）控制生成实时掩模图形；    ②利用生成的实时掩模图形对感光材料（３）进行第一次曝光，获得ｎ＝１次曝光的曝光量累积；    ③固定

[权利要求数]：4

[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]： 本发明公开了一种三维微结构的制作方法及其使用的曝光装置。该方法利用计算机产生的掩模图形对感光材料进行重复曝光后，移动曝光台，对感光材料的不同区域在进行曝光；最后显影，形成任意连续三维微结构。该方法所使用的曝光装置包括计算机、液晶光阀、投影镜头和曝光台。本发明能够制作总体面积大的微结构元器件，避免了传统曝光技术中昂贵费时的制版工艺，降低了微结构制作费用，且进一步提高了制作效率和制作精度。

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