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高分子材料表面改性等离子体处理装置GaoFenZiCaiLiaoBiaoMianGaiXingDengLiZiTiChuLiZhuangZhi

[题名]:高分子材料表面改性等离子体处理装置GaoFenZiCaiLiaoBiaoMianGaiXingDengLiZiTiChuLiZhuangZhi

[TiMing]:GaoFenZiCaiLiaoBiaoMianGaiXingDengLiZiTiChuLiZhuangZhiGaoFenZiCaiLiaoBiaoMianGaiXingDengLiZiTiChuLiZhuangZhi

[申请号]:200420024143[公开号]:00000000

[公告号]:2673629[申请日期]:20040108

[公开日期]:00000000[公告日期]:20050126

[授权日期]:20050126

[专利类型]:实用新型

[国际类型]:B29C59/14

[申请人]:苏州鸿达等离子体技术开发有限公司

[ShenQingRen]:SuZhouHongDaDengLiZiTiJiShuKaiFaYouXianGongSi

[国家省市]:江苏(32)

[地址]:江苏省苏州市吴中开发区横泾工业园新兴东路

[DiZhi]:JiangSuShengSuZhouShiWuZhongKaiFaQuHengZuoGongYeYuanXinXingDongLu

[邮编]:215104

[发明人]:王红卫  [FaMingRen]:WangHongWei

[代理人]:王苏平;陶海锋  [DaiLiRen]:WangSuPing,TaoHaiFeng

[代理机构]:苏州市专利事务所(32103)[代理地址]:江苏省苏州市人民路91号科技大楼五楼(215002)

[审批历史]:

[页数]:5[附图]:2[优先权]:[PCT]:[范畴]:[权利要求]:
    一种高分子材料表面改性等离子体处理装置,包括真空密封室及通过管道连接的真空泵、连接射频电源的电极对和喂料装置,其特征在于:所述的真空密封室内的电极为圆柱状,内部为空腔,电极两端分别设有冷却水进、出口

[权利要求数]:1

[来源]: 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]: 本实用新型公开了一种高分子材料表面改性等离子体处理装置,其真空密封室内的电极采用圆柱状,并按“+”、“-”相间的阵列方式放置;电极阵列两端安装有导向辊,物料经导向辊在电极对中通过;电极内部为空腔,两端分别设有冷却水进、出口,与冷却水循环装置连接。该装置不仅能完成对薄膜状高分子材料的等离子体表面活化处理,而且可以同步完成等离子体接枝或等离子体沉积处理,具有处理效果均匀、工作效率高、无环境污染等特点。

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