[TiMing]：JiangShiJiYanQiZhuRuDengLiZiTiDeZhuSheQiHeFangFaJiangShiJiYanQiZhuRuDengLiZiTiDeZhuSheQiHeFangFa
[申请号]：01820984[公开号]：1481449
[公告号]：0000000[申请日期]：20011012
[公开日期]：20040310[公告日期]：00000000
[授权日期]：00000000
[专利类型]：发明专利
[国际类型]：C23C16/513;H01J37/32
[申请人]：通用电气公司
[ShenQingRen]：TongYongDianQiGongSi
[国家省市]：美国(US)
[地址]：美国纽约州
[DiZhi]：MeiGuoNiuYueZhou
[邮编]：
[发明人]：B·L·-M·杨 [FaMingRen]：B·L·-M·Yang
[代理人]：张元忠;孟凡宏 [DaiLiRen]：ZhangYuanZhong,MengFanHong
[代理机构]：中国专利代理(香港)有限公司(72001)[代理地址]：香港湾仔港湾道23号鹰君中心22字楼()
[审批历史]：
[页数]：14[附图]：6[优先权]： 美国2000年12月20日09/742,837[PCT]： [范畴]：[权利要求]：
一种用于将流体注入等离子体的注射器体系，其包含： 包含喷嘴（２）的基体（４），其包含： 限定第一通道部分（６）的第一内壁（３），用于限制流体的流动，并且其外形使得第一通道部分（６）的内壁（３）平
[权利要求数]：0
[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com
[摘要]： 提供了用于将流体注入等离子体流的方法和装置，其在长时间使用过程中能均匀分配并且减少堵塞的可能性。一种喷嘴（２），包含用于限制流体流动的第一通道部分（６），其外形使得第一通道部分（２）的内壁平行于第一轴（９）。该喷嘴（２）也包含与第一通道部分（６９）流体连通的第二通道部分（８）。第二通道部分（８）包含凹壁部分，使第二通道部分（８）的内壁以预定角度偏离第一轴（９）。第二通道部分（８）减少了使用期间堵塞层在第二通道部分（８）的内壁上的形成。而且，喷嘴（２）还可以包含伸入等离子体的尖端部分（２８）。喷嘴（２）可以并入注射器体系或者在注射器体系中可互换，所述注射器体系被设计用于在等离子体沉积装置中操作。
[相关文献]：更多相似文献
[下一条]：多层产品的制造方法,相关粘附促进剂的应用及此方法的应用
