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采用接地导电栅网的直流等离子体离子注入装置CaiYongJieDiDaoDianZhaWangDeZhiLiuDengLiZiTiLiZiZhuRuZhuangZhi

[题名]：采用接地导电栅网的直流等离子体离子注入装置CaiYongJieDiDaoDianZhaWangDeZhiLiuDengLiZiTiLiZiZhuRuZhuangZhi

[TiMing]：CaiYongJieDiDaoDianZhaWangDeZhiLiuDengLiZiTiLiZiZhuRuZhuangZhiCaiYongJieDiDaoDianZhaWangDeZhiLiuDengLiZiTiLiZiZhuRuZhuangZhi

[申请号]：00106152[公开号]：1320947

[公告号]：1168116[申请日期]：20000427

[公开日期]：20011107[公告日期]：00000000

[授权日期]：20040922

[专利类型]：发明专利

[国际类型]：H01J37/317;H01L21/265

[申请人]：香港城市大学

[ShenQingRen]：XiangGangChengShiDaXue

[国家省市]：香港(HK)

[地址]：香港九龙达之路

[DiZhi]：XiangGangJiuLongDaZhiLu

[邮编]：

[发明人]：朱剑豪;郭达勤;曾旭初;陈聪  [FaMingRen]：ZhuJianHao、GuoDaQin、ZengXuChu、ChenCong

[代理人]：李强;郑特强  [DaiLiRen]：LiQiang,ZhengTeQiang

[代理机构]：隆天国际专利商标代理有限公司(72003)[代理地址]：香港干诺道中168-200号信德中心西翼15楼1512室()

[审批历史]：

[页数]：8[附图]：2[优先权]：[PCT]：[范畴]：38D39D[权利要求]：
    一种直流等离子体离子注入装置，包括：真空室，等离子体产生器，安装在所述真空室内的靶台和高压电源，其特征是：    所述真空室呈圆盘状，具有工作气体的进行口和抽气口；    一个导电栅网，配置在所述靶台的上方

[权利要求数]：1

[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]： 一种直流等离子体离子注入装置，包括：真空室，等离子体产生器，安装在所述真空室内的靶台和高压电源，其特征是：所述真空室呈圆盘状，具有工作气体的进行口和抽气口；一个导电栅网，配置在所述靶台的上方将真空室分成两个部分，并且所述导电栅网同所述真空室壁连接并接地；所述靶台的下部具有穿过真空室壁的引出电极；以及一个直流高压电源，所述直流高压电源的高压直流负端同所述靶台的所述引出电极连接，而正端接地。

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