等离子体处理装置和使用该装置的等离子体产生方法DengLiZiTiChuLiZhuangZhiHeShiYongGaiZhuangZhiDeDengLiZiTiChanShengFangFa

[题名]：等离子体处理装置和使用该装置的等离子体产生方法DengLiZiTiChuLiZhuangZhiHeShiYongGaiZhuangZhiDeDengLiZiTiChanShengFangFa

[TiMing]：DengLiZiTiChuLiZhuangZhiHeShiYongGaiZhuangZhiDeDengLiZiTiChanShengFangFaDengLiZiTiChuLiZhuangZhiHeShiYongGaiZhuangZhiDeDengLiZiTiChanShengFangFa

[申请号]：00130036[公开号]：1294480

[公告号]：1170460[申请日期]：20001025

[公开日期]：20010509[公告日期]：00000000

[授权日期]：20041006

[专利类型]：发明专利

[国际类型]：H05H1/24

[申请人]：松下电工株式会社

[ShenQingRen]：SongXiaDianGongZhuShiHuiShe

[国家省市]：日本(JP)

[地址]：日本大阪府

[DiZhi]：RiBenDaZuoFu

[邮编]：

[发明人]：田口典幸;泽田康志;山崎圭一;中园佳幸;猪冈结希子;喜多山和也  [FaMingRen]：TianKouDianXing、ZeTianKangZhi、ShanQiGuiYi、ZhongYuanJiaXing、ZhuGangJieXiZi、XiDuoShanHeYe

[代理人]：潘培坤;陈红  [DaiLiRen]：PanPeiKun,ChenHong

[代理机构]：隆天国际专利商标代理有限公司(72003)[代理地址]：香港干诺道中168-200号信德中心西翼15楼1512室()

[审批历史]：

[页数]：11[附图]：8[优先权]：    日本1999年10月25日JP11-303115[PCT]：[范畴]：39D[权利要求]：
    一种等离子体处理装置，用于以大气压力附近的压力下产生的等离子体来处理对象，所述装置包括：    具有孔的产生等离子体的室，所述等离子体从该孔吹出；    气体供应，用于将产生等离子体的气体送入所述室；    一

[权利要求数]：0

[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]： 一种等离子体处理装置，利用点火电极方便地启动装置而不使用昂贵的阻抗匹配设备，能可靠地产生大气压力等离子体。该装置包括：具有孔的产生等离子体的室，等离子体从该孔吹出；气体供应单元，用于将产生等离子体的气体送入室中；一对电极；电源，用于在电极之间施加交流电场以维持室内的等离子体；用于提供脉冲电压的脉冲发生器；以及点火电极，用于对室内所送入的气体施加脉冲电压以产生等离子体。

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