用于检查光掩模上形成的曝光图形的方法YongYuJianChaGuangYanMoShangXingChengDePuGuangTuXingDeFangFa

[题名]：用于检查光掩模上形成的曝光图形的方法YongYuJianChaGuangYanMoShangXingChengDePuGuangTuXingDeFangFa

[TiMing]：YongYuJianChaGuangYanMoShangXingChengDePuGuangTuXingDeFangFaYongYuJianChaGuangYanMoShangXingChengDePuGuangTuXingDeFangFa

[申请号]：00136105[公开号]：1306225

[公告号]：0000000[申请日期]：20001220

[公开日期]：20010801[公告日期]：00000000

[授权日期]：00000000

[专利类型]：发明专利

[国际类型]：G03F7/20

[申请人]：日本电气株式会社

[ShenQingRen]：RiBenDianQiZhuShiHuiShe

[国家省市]：日本(JP)

[地址]：日本东京

[DiZhi]：RiBenDongJing

[邮编]：

[发明人]：宫川诚司  [FaMingRen]：GongChuanChengSi

[代理人]：穆德骏;方挺  [DaiLiRen]：MuDeJun,FangTing

[代理机构]：中原信达知识产权代理有限责任公司(11219)[代理地址]：北京市朝阳区建国路99号中服大厦1300室(100020)

[审批历史]：

[页数]：21[附图]：9[优先权]：    日本1999年12月20日361069/1999[PCT]：[范畴]：30C[权利要求]：
    一种参考检查数据检查曝光图形的方法，曝光图形具有重叠区域，该重叠区域受到电子束的双重曝光，从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度，    其中对检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据进行修改，

[权利要求数]：50

[来源]： 专利查询 http://patents.dic123.com patents.dic123.com

[摘要]： 本发明提供一种参考检查数据来检查曝光图形的方法，其中掩模图形具有重叠区域，该重叠区域受到电子束的双重曝光，从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度。该方法对检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据进行修改，以改变互连部分的宽度。

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