- 强化抗腐蚀的制程组件
- [地址]美国加州 [申请人]应用材料有限公司 [公开号]1577765 [国家省市]美国(US) [国际分类]H01L21/3065 [摘要] 一种抗等离子体腐蚀的制程组件，其可以维持等离子体性质的空间均匀性、减少腔室中粒子的产生以及提高制程组件的寿命。一聚合物材料层覆盖住制程组件的上表面。而且此聚合物材料层是氟碳化物且不会与等离子体中的物质反应。此聚合物材料层不仅可保护制程组件免于累进的腐蚀，而且还可以避免腔室中粒子的产生。此聚合物材料层的介电常数系与制程组件的介电常数相似，因此可以维持靠近晶圆周围的等离子体性质的空间....
- 发明人：珍妮弗·Y·桑;亚娜达·H·库玛;太许山恩代理人：胡晶;王学强代理机构：北京集佳商标专利事务所(11227)专利类型：发明专利
