- 用于离子注入的方法和装置
- [地址]美国马萨诸塞州 [申请人]瓦里安半导体设备联合公司 [公开号]1575503 [国家省市]美国(US) [国际分类]H01J37/317 [摘要] 这项发明提供用于诸如半导体晶片之类的工件的受控的离子注入的方法和装置。这种方法包括产生离子束，让离子束在第一方向扫过工件以产生扫描线，在第二方向相对于离子束这样平移工件，以致扫描线以及标准的空间频率分布在工件上，从而获得工件的剂量图，以如果所获得的剂量图不在技术要求范围之内而且必要的剂量修正少于能用扫描线的标准空间频率获得的最小剂量修正则开始剂量修正注入并且在剂量修正期间控制扫描线的空间频率。
- 发明人：杰伊·T·舒尤尔;格雷戈里·R·杰比拉热代理人：过晓东代理机构：永新专利商标代理有限公司(72002)专利类型：发明专利
- 晶片支座倾斜机构和冷却系统
- [地址]美国马萨诸塞州 [申请人]艾克塞利斯技术公司 [公开号]1575504 [国家省市]美国(US) [国际分类]H01J37/317 [摘要] 本发明提供了一种晶片垫组件，可将其用在离子植入装置中，用于安装和冷却晶片。所述晶片垫组件包括一个晶片支撑垫，它具有一个用于安装晶片的上表面，和一个下表面。所述晶片支撑垫的下表面与一个冷却剂通道连接，该通道具有相对安装的入口部分和出口部分，其中，所述入口部分是通过所述出口部分平衡的，其下表面与一个支架连接，该支架具有弧形外表面，以便与一个壳体的具有互补形状的支撑表面配合接合，其中，所述晶片可以绕一个轴线倾斜或转动。
- 发明人：A·维德;R·费斯代理人：苏娟代理机构：中国专利代理(香港)有限公司(72001)专利类型：发明专利
- 通过电子束写图形的方法和设备
- [地址]英国剑桥 [申请人]莱卡微系统石版印刷有限公司 [公开号]1271461 [国家省市]英国(GB) [国际分类]H01J37/317 [摘要] 一种通过电子束在衬底（１３）表面上写图形如在抗蚀剂涂敷的晶片上写电路的方法，包括以下步骤：将衬底表面暴露到电子束（１２），通过表面上束的聚焦点的步进移动，可控地逐渐绘制图形，在连续步进移动期间，例如通过将偏转板（１７）偏转到消除元件（１６）和从消除元件（１６）上移回，选择性地调节束，从而改变束对表面的曝光，以减小表面上束点的预定位置中的电子剂量。
- 发明人：D·M·P·金;B·J·胡赫斯代理人：梁永;张志醒代理机构：中国专利代理(香港)有限公司(72001)专利类型：发明专利
- 离子注入机中的靶盘倾斜扫描运动机构
- [地址]北京市100084-82信箱 [申请人]清华大学 [公开号]1560896 [国家省市]北京(11) [国际分类]H01J37/317、H01L21/265 [摘要] 离子注入机中的靶盘倾斜扫描运动机构，属于半导体设备技术领域。现有靶盘扫描运动机构采取了串联运动机构，为了解决这种机构刚度低、传动系统复杂、积累误差大的问题，本发明公开了一种采用伸缩腿双支链结构的３自由度平面并联机构，包括靶盘、伸缩腿第一支链和伸缩腿第二支链，靶盘上安装有接受离子注入的硅片。伸缩腿第一支链和第二支链的一端分别通过转动铰与离子注入机的注入腔室的两个安装点连接，它们的另....
- 发明人：汪劲松;朱煜;陈涛;尹文生;段广洪;于晖代理人：代理机构：专利类型：发明专利
- 离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构
- [地址]北京市100084-82信箱 [申请人]清华大学 [公开号]1560897 [国家省市]北京(11) [国际分类]H01J37/317、H01L21/265 [摘要] 离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构，属于半导体设备技术领域。现有靶盘扫描运动机构采取了串联运动机构，为了解决这种机构刚度低、传动系统复杂、积累误差大的问题，本发明公开了一种采用伸缩腿双支链结构的２自由度平面并联机构，包括靶盘、伸缩腿第一支链和伸缩腿第二支链，靶盘上安装有接受离子注入的硅片。伸缩腿第一支链的一端通过转动铰与离子注入机注入腔室的第一安装点连接，另一端通过转动铰与靶盘的....
- 发明人：汪劲松;朱煜;陈涛;尹文生;段广洪;于晖代理人：代理机构：专利类型：发明专利
- 离子注入机中的靶盘角度控制与扫描运动机构
- [地址]北京市100084-82信箱 [申请人]清华大学 [公开号]1595599 [国家省市]北京(11) [国际分类]H01J37/317、H01L21/265 [摘要] 一种离子注入机中靶盘角度控制与扫描运动机构，属于半导体设备技术领域。本发明提供了一种离子注入机中靶盘角度控制与扫描运动机构，其特征在于：所述角度控制与扫描运动机构为ＰＲ－ＰＲＲ型双支链２自由度平面并联机构，包括靶盘、第一支链和第二支链。本发明解决了现有串联型靶盘角度控制与扫描机构的刚度低、与腔室连接的底层构件负荷过大等问题，同时，有利于将靶盘扫描运动机构的驱动电动机布置于注入腔室的外部，克服了驱动电动机布置于腔室内部而带来的对注入腔室环境的不利影响。
- 发明人：汪劲松;朱煜;于晖;曹家勇;尹文生;段广洪;陈涛代理人：代理机构：专利类型：发明专利
- 强流氧离子注入机的晶片自转动装置
- [地址]湖南省长沙市天心区黑石铺路48号 [申请人]中国电子科技集团公司第四十八研究所、北京中科信电子装备有限公司 [公开号]1564309 [国家省市]湖南(43) [国际分类]H01J37/317、H01L21/265 [摘要] 本发明为一种强流氧离子注入机的晶片自转动装置，包括正面有多个晶片放置位置的靶盘７，所述靶盘７的各晶片放置位置的中心部位有安装了滚珠轴承２、８的贯通轴孔９，对应于晶片放置位置的靶盘１的后部装有微型电动机１且其电动机转轴６装在所述贯通轴孔９的相应滚珠轴承２上并同装有滚珠轴承８的硅衬转盘轴５的一端相连接，该硅衬转盘轴５的另一端同安装在靶盘正面用于放置晶片３的硅衬转盘４中心部位相连接。应....
- 发明人：唐景庭;伍三忠;贾京英;刘咸成;姚志丹代理人：马强代理机构：湖南省专利服务中心(43113)专利类型：发明专利
- 能够运载处理对象进入并离开真空室的真空处理系统
- [地址]日本爱媛县 [申请人]玉井忠素 [公开号]1532886 [国家省市]日本(JP) [国际分类]H01J37/317、H01L21/265 [摘要] 第一和第二加载锁定机构安装在一个真空室内。一个外臂以及第一和第二机械臂安置在所述真空室的外面。所述外臂能够保持处理对象，并可以将所保持的处理对象送入第一加载锁定机构或送入第二加载锁定机构。所述第一机械臂可以在真空室外面的供应位置和第一加载锁定机构之间以及在所述供应位置和所述外臂之间传递所述处理对象。所述第二机械臂可以在所述供应位置和第二加载锁定机构之间以及在所述供应位置和所述外臂之间传递所述处理对象。
- 发明人：玉井忠素代理人：张金熹代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所(11038)专利类型：发明专利
- 离子注入机
- [地址]吉林省长春市东南湖大路16号 [申请人]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 [公开号]1547240 [国家省市]长春(82) [国际分类]H01J37/317、H01L21/265 [摘要] 本发明属于半导体器件制作技术领域，是一种多晶硅薄膜晶体管离子注入机。本发明包含有真空室，抽气装置，气路部分，电控制器。本发明的气路部分通过配气截止阀同真空室连接，向真空室运送所要注入的气体。抽气装置通过角阀和闸板阀同真空室连接，利用真空泵使真空室保持一定的真空度。电控制器连接所有的用电部件，作为本发明的电源。本发明采取离子通量注入的方式，省去了现有技术中质量分析系统、离子束聚焦和....
- 发明人：付国柱;邵喜斌;荆海;廖燕平;高文涛;史辉琨代理人：李恩庆代理机构：中国科学院长春专利事务所(22001)专利类型：发明专利
- 精确控制离子注入浓度的方法及同步控制压力补偿因子的方法
- [地址]台湾省新竹科学工业园 [申请人]茂德科技股份有限公司 [公开号]1632920 [国家省市]台湾(71) [国际分类]H01L21/265、H01J37/317 [摘要]
- 发明人：许恒凯;陈昱企代理人：贾静环;宋莉代理机构：柳沈知识产权律师事务所(11105)专利类型：发明专利
